10% endirim hədiyyə edin
Bu kitabı tövsiyə edin və dostunuzun alışından 43,74 ₼ əldə edin.
Yalnız Litres-də oxuyun
Kitab fayl olaraq yüklənə bilməz, yalnız mobil tətbiq və ya onlayn olaraq veb saytımızda oxuna bilər.
Основной контент книги Atomic Layer Deposition
Mətn PDF
Həcm 274 səhifə
0+
Atomic Layer Deposition
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Yalnız Litres-də oxuyun
Kitab fayl olaraq yüklənə bilməz, yalnız mobil tətbiq və ya onlayn olaraq veb saytımızda oxuna bilər.
437,32 ₼
Kitab haqqında
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Janr və etiketlər
Daxil olun, kitabı qiymətləndirmək və rəy bildirmək üçün
Kitab David Cameron, Arthur Sherman «Atomic Layer Deposition» — saytda onlayn oxuyun. Şərh və rəylərinizi qeyd edin, sevimlilərinizi seçin.
Yaş həddi:
0+Litresdə buraxılış tarixi:
02 oktyabr 2018Həcm:
274 səh. ISBN:
9781118747421Ümumi ölçü:
3.3 МБSəhifələrin ümumi sayı:
274Naşir:
Müəllif hüququ sahibi:
John Wiley & Sons Limited