10% endirim hədiyyə edin
Bu kitabı tövsiyə edin və dostunuzun alışından 40,10 ₼ əldə edin.
0+
mətnPDF
Həcm 274 səhifələri
Atomic Layer Deposition
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
mətnPDF
400,91 ₼
Kitab haqqında
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Janr və etiketlər
Rəy bildirmək
Giriş, kitabı qiymətləndirmək və rəy bildirmək
Kitabın təsviri
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Kitab David Cameron, Arthur Sherman «Atomic Layer Deposition» — saytda onlayn oxuyun. Şərh və rəylərinizi qeyd edin, sevimlilərinizi seçin.
Yaş həddi:
0+Litresdə buraxılış tarixi:
02 oktyabr 2018Həcm:
274 səh. ISBN:
9781118747421Ümumi ölçü:
3.3 МБSəhifələrin ümumi sayı:
274Naşir:
Müəllif hüququ sahibi:
John Wiley & Sons Limited
