Основной контент книги Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Mətn PDF
Həcm 357 səhifə
Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
müəllif
annie baudrant
336,60 ₼
Kitab haqqında
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Daxil olun, kitabı qiymətləndirmək və rəy bildirmək üçün
Книга Annie Baudrant «Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment» — читать онлайн на сайте. Оставляйте комментарии и отзывы, голосуйте за понравившиеся.
Yaş həddi:
0+Litresdə buraxılış tarixi:
10 aprel 2018Həcm:
357 səh. ISBN:
9781118601112Ümumi ölçü:
14 МБSəhifələrin ümumi sayı:
357Müəllif hüququ sahibi:
John Wiley & Sons Limited